Předmět Technika tenkých vrstev (NEVF103)
Na serveru studentino.cz naleznete nejrůznější studijní materiály: zápisky z přednášek nebo cvičení, vzorové testy, seminární práce, domácí úkoly a další z předmětu NEVF103 - Technika tenkých vrstev, Matematicko-fyzikální fakulta, Univerzita Karlova v Praze (UK).
Top 10 materiálů tohoto předmětu
Materiály tohoto předmětu
| Materiál | Typ | Datum | Počet stažení |
|---|
Další informace
Sylabus
1. Metody přípravy tenkých vrstev -fyzikální metodyVakuové napařování (rovnovážný tlak par, rychlost vypařování, směrovost vypařovadel, realizace vypařovadel, vypařování sloučenin a slitin, vypařování elektronovým svazkem, MBE). Naprašování (základní představy, naprašovací systémy, magnetron, srovnání napařování a naprašování). Laserová ablace. Ablace elektronovým svazkem. Depozice ionizovaných klastrů. 2. Metody přípravy tenkých vrstev -chemické metodyCVD (dekompozice, disproporciace, transportní reakce,VLPCVD, PECVD, MOCVD). Anodická oxidce, LB vrstvy. 3. Metody měření depoziční rychlosti a tloušťky tenkých vrstevMěření v proudu par. Metoda kmitajícího krystalu. Optické metody (Tolanského metoda, FECO, spektrální odrazivost). 4. Techniky studia morfologie vrstev a povrchůTEM, SEM, STM, AFM, LEEM, FIM, FEM. 5. Metody pro určení struktury a složení tenkých vrstevDifrakční metody. Spektroskopie. Interakce s ionty (RBS, SIMS). 6. Příprava substrátůChemické ošetření. Leptání.Žíhaní. 7. Litografie, maskování a vytváření nanostrukturIontové leptání. Selektivní leptání. Využití fotorezistů. 8. Vlastnosti TVMěření tvrdosti, adheze a vodivosti TV.
Literatura
Krishna Seshan-editor.: Handbook of Thin-Film Deposition Processes and Techniques, Noyes Publications- William Andrew Publishing , Norwitch, New York 2002Eckertová L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, NY 1986
Garant
doc. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc.doc. RNDr. Pavel Sobotík, CSc.