Elektronika V1 - 1.semestr
Níže je uveden pouze náhled materiálu. Kliknutím na tlačítko 'Stáhnout soubor' stáhnete kompletní formátovaný materiál ve formátu DOC.
G (Gate = hradlo)
přechody P+N se nazývají hradlové (G)
přechod NN+ (S) injektuje při vhodné polaritě připojeného napětí do oblasti kanálu (1) majoritní nosiče náboje
přechod N+N (D) se polarizuje do závěrného směru
tranzistor bez řídícího napětí uGS
vlivem difúzního napětí se vytvoří rovnoměrně široké ochuzené oblasti (4)
tranzistor s řídícím napětím uGS (viz schéma)
přechody P+N polarizovány v závěrném směru ⇒ rozšíření ochuzené oblasti ⇒ zúžení vodivého kanálu ⇒ tranzistory řízené polem
tranzistor s připojeným napětím uDS
kanálem protékají elektrony ⇒ vznik proudu mezi S a D
díky kladnému napětí na D změní ochuzená oblast tvar ⇒ zúžení kanálu v oblasti D ⇒ zvětšení jeho odporu ⇒ při vzrůstu napětí uDS vzrůstá proud jen nepatrně až se jeho růst zcela zastaví ⇒ viz VA charakteristiky
2.1.6 Součástky s povrchovými jevy.
Tranzistory s izolovaným hradlem.
IGFET (Insulated Gate Field Effect Transistor)
MISFET (Metal Insulator Semiconductor FET)
MOSFET (Metal Oxide Semiconductor FET) – jako izolační vrstva je použit oxid křemíku (SiO2)
Struktura MIS
polovodivá podložka (křemíková destička o tloušťce 300 až 500 μm)
vrstva dielektrika (např. vrstva SiO2) o tloušťce 0,05 až 0,2μm
elektroda G (gate) z dobře vodivého materiálu (hliník, polykrystalický křemík) o tloušťce několika desítek μm
rozdělení tranzistorů MOSFET
MOSFET s indukovaným kanálem
MOSFET s vodivým kanálem
Činnost tranzistoru MOSFET s indukovaným kanálem
napětí uDS = 0, napětí uGS = 0
odpor mezi S a D je velmi vysoký ⇒ proud tranzistorem je téměř nulový
napětí uGS přiložíme tak, že hradlo G je na vyšším potenciálu než source S
v izolační vrstvě pod hradlem se vytvoří elektrostatické pole
jeho siločáry směřují od hradla k povrchu polovodiče ⇒ díry jsou odpuzovány do polovodiče, elektrony jsou k povrchu přitahovány ⇒ výrazné zvýšení koncentrace elektronů pod hradlem ⇒ inverze populace (typ vodivosti se mění od P k N) ⇒ zmizí přechod PN u elektrod S a D ⇒ vytvoří se vodivé spojení S-D = kanál konstantního průřezu
přiložíme napětí uGS
kanálem bude protékat proud iD
vlivem odporu kanálu se napětí mezi kanálem a hradlem uG zmenšuje a kanál se zužuje (viz průběh charakteristik)
Činnost tranzistoru MOSFET s vodivým kanálem
proud jím může protékat i při nulovém napětí na hradle
uGS > 0
tranzistor pracuje v akumulačním režimu
s růstem napětí na hradle roste proud tranzistorem ⇒ obohacený mód
uGS < 0
na hradle záporný náboj, který přitahuje díry a odpuzuje elektrony ⇒ kanál se zúží
při růstu napětí na hradle klesá proud tranzistorem ⇒ ochuzený mód
Vlastnosti:
izolační vrstva hradla velmi tenká, provozní napětí vždy blízko průrazu ⇒ malý nadbytečný náboj na hradle způsobí průraz izolace a trvalou destrukci tranzistoru
tranzistory a integrované obvody na bázi MOSFET je nutno vkládat do kovových fólií, zkratovat jejich výstupní svorky nebo je zasouvat do vodivé (grafitem plněné) polyuretanové pěny
při manipulaci nutno zabránit tvorbě elektrostatických nábojů (antistatické oděvy, uzemnění, antistatické pracovní povrchy, podlahy, ….)