Elektronika V1 - 1.semestr
Níže je uveden pouze náhled materiálu. Kliknutím na tlačítko 'Stáhnout soubor' stáhnete kompletní formátovaný materiál ve formátu DOC.
diody pracují v hradlovém režimu
jako zdroj energie v kosmu
zdroje v nedostupných místech a s dlouhou dobou slunečního svitu
vyrábějí se z
monokrystalického Si (účinnost konverze sluneční energie na elektrickou 15-18%)
polykrystalického Si (10%)
amorfního Si (6-7%), nejlevnější
Fototranzistor
optoelektronický detekční prvek, u něhož je proud vzniklý v důsledku absorpce dopadajícího záření zesílen tranzistorovým jevem
maximum světelného záření je absorbováno v oblasti báze (není vyvedena)
dopadající záření vytváří páry elektron-díra
elektrony se pohybují směrem ke kolektorovému přechodu
díry procházejí závěrně polarizovaným přechodem a vytvářejí fotoelektrický proud
emitor musí být co nejtenčí (aby se většina záření dostala do báze)
VA charakteristiky obdobné jako u bipolárního tranzistoru (parametrem je zářivý tok)
spektrální charakteristika obdobná jako u fotodiody (citlivost o
1 až 2 řády vyšší)
menší rychlost (doba odezvy ∼ 1 až 10μs)
Fototyristor
čtyřvrstvá polovodičová struktura PNPN, která se do sepnutého stavu uvádí optickým zářením
nadbytečné nosiče náboje potřebné k jeho sepnutí se vytvářejí absorpcí fotonů
maximum světelného záření je absorbováno v oblasti závěrně polarizovaného přechodu
rychlost sepnutí výrazně závisí na velikosti dopadajícího zářivého toku
Polykrystalické součástky pro detekci optického záření - fotorezistory.
princip založen na vnitřním fotoelektrickém jevu (pohlcováním fotonů se uvolňují volné nosiče náboje ⇒ působením optického záření se zvětšuje jejich vodivost)
vyrábějí se z polykrystalických materiálů typu AIIBIV (PbS, CdS, ….)
závislost odporu fotorezistoru na osvětlení
spektrální citlivost závisí na šířce zakázaného pásu použitého polovodiče a na absorpčním mechanismu
VA charakteristika fotorezistoru
dynamické odezvy velmi pomalé (doba náběhu a doběhu
∼ 10 až 100ms) a závisí na úrovni osvětlení, teplotě a vlnové
délce záření
vhodné k využití ve stejnosměrných aplikacích
odpor za tmy RT, není konstantní, jeho hodnota se ustaluje až po delší době (u CdS je RT ∼1MΩ a doba ustálení přibližně 30min)
výroba
napaření polovodiče na podkladový materiál ve vakuu a tepelné zpracování
elektrody se vytvářejí napařením kovů
konstrukční provedení
systém se montuje do kovového pouzdra s okénkem
Optické součástky heterogenní.
jednoduchý přechod PN vhodný pouze pro nekoherentní elektroluminiscenční diody
heteropřechody
podstatné zlepšení kvantové účinnosti
oblast generace záření se soustřeďuje do menšího prostoru ⇒ součástky s lépe vymezenou oblastí generace světla, vyšší úroveň buzení
každý materiál jiný index lomu ⇒ světlovodný efekt ⇒ zúžení vyzařovaného svazku
Infračervený laser s jedním heteropřechodem